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產(chǎn)品中心分散機(jī)研磨分散機(jī)GMSD2000GMSD2000/4 溶膠研磨分散機(jī) 混合設(shè)備
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GMSD2000/4 溶膠研磨分散機(jī) 1.設(shè)備名稱：溶膠研磨分散機(jī),溶膠研磨設(shè)備,德國研磨分散機(jī),實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī),進(jìn)口研磨分散機(jī),研磨分散機(jī)廠家,研磨分散機(jī)價(jià)格
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2.溶膠特征：
（1）分散相粒子大小在1—100nm范圍，且分散相在分散介質(zhì)中的溶解度很小。分散相和分散介質(zhì)存在分界面，因此它是高度分散的多相體系，粘度比真溶液大；
（2）溶膠不穩(wěn)定，膠粒具有自動(dòng)凝結(jié)變大的趨勢，放置較長一段時(shí)間后，也會(huì)沉淀出來，但是短時(shí)間內(nèi)具有一定穩(wěn)定性；
（3）膠體沉淀后，如果再放入分散介質(zhì)也不會(huì)再自動(dòng)形成溶膠，因此沉淀是不可逆的過程。
效果好的溶膠，粒子應(yīng)該是分散均勻且無抱團(tuán)現(xiàn)象，這就需要有高的剪切力，國產(chǎn)研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速較低，轉(zhuǎn)定子間隙較大，不能滿足實(shí)驗(yàn)生產(chǎn)的需要。SGN公司研發(fā)的高剪切研磨分散機(jī)，轉(zhuǎn)速具有14000轉(zhuǎn)，采用德國的高精密設(shè)備加工轉(zhuǎn)定子，使得間隙可以控制的很小，加上高的轉(zhuǎn)速，可以有效分散細(xì)小顆粒，解決抱團(tuán)的問題。
3.溶膠制備方法：
由于制備溶膠要求分散質(zhì)以交替狀態(tài)分布于介質(zhì)中，而且這種分散體系能在穩(wěn)定劑存在下能夠穩(wěn)定下來。從粒子大小看，由于溶膠粒子小于可濾出的粒子，而大于一般溶液的小分子：將大塊物質(zhì)利用研磨分散機(jī)等手段，磨成直徑0.1—1μm的粒子，即分散法。
GMSD2000/4 溶膠研磨分散機(jī)
4.溶膠研磨分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。
分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫妫貏e要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。
GMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
5.溶膠研磨分散機(jī)設(shè)備選型表：
型號(hào) | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMSD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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