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產品簡介
隔膜分散高速納米膠體磨，研發出了二者相結合的研磨分散機，其磨頭結構采用錯齒形，自上而下齒槽深度由深到淺，定轉子部分間隙理論上能夠實現無限接近，再配合超高轉速，當顆粒進入磨頭腔體之后，瞬間即可被超微粉碎。
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ARTICLES隔膜分散高速納米膠體磨，制作電池隔膜的分散工藝有以下要求：
- 均勻分散 ：隔膜材料中的各種組分需要均勻分散，以確保隔膜的性能一致性和穩定性。
- 控制孔徑和孔隙率 ：隔膜的孔徑和孔隙率對電池性能有重要影響。孔徑需要均勻且適中，以保證鋰離子的順利通過和防止正負極短路。
- 保持材料的完整性 ：在分散過程中，要避免材料的過度剪切和破壞，以保持隔膜材料的完整性和力學性能。
- 避免雜質引入 ：分散工藝需要在潔凈的環境中進行，以防止雜質的引入，影響隔膜的性能和電池的安全性。
- 能耗和成本控制 ：在保證隔膜性能的同時，還需要考慮分散工藝的能耗和成本，以實現經濟效益。
思峻在傳統膠體磨與均質機的基礎上，研發出了二者相結合的研磨分散機，其磨頭結構采用錯齒形，自上而下齒槽深度由深到淺，定轉子部分間隙理論上能夠實現無限接近，再配合15000RPM的超高轉速，當顆粒進入磨頭腔體之后，瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來后進入分散盤腔內，根據物料的特性及處理量的要求，提供2G，4M，6F，8SF不同規格的斜齒，對磨細的顆粒進行二次剪切和分散，防止顆粒抱團。
高速研磨分散機， 線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓錐形，具有精細度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力（可有泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，通過高速研磨分散機定轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子，好的表面處理和優質材料，可以滿足不同行業的多種需求。
模塊化設計的主要特點如下：
-直立式腔體結構，物料可以全部進入分散腔；
-良好的表面處理；
-符合CIP/SIP的清洗要求；
-低噪音；
-所有接觸物料的材質均為SS316；
-小試、中試到量產，平穩過渡；
-僅需簡單的更換功能模塊，即可滿足分散-懸浮-均質-乳化的不同要求；
-衛生設計，適合食品及制藥行業；
-可提供特殊材質滿足磨損性及腐蝕性產品處理要求。
隔膜分散高速納米膠體磨型號表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
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