納米碳化硼高速分散機

納米碳化硼高速分散機

分散機可以處理量大，運轉更平穩，拆裝更方便,適合工業化在線連續生產，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，無si角，物料100%通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。

主要特點納米碳化硼、超細碳化硼粉通過特殊工藝方法制備，產品純度高、粒徑小、分布均勻，比表面積大、高表面活性，松裝密度低，是一種人工合成的超硬質材料，硬度僅次于金剛石，莫氏硬度9.46，顯微硬度5600—6200Kg/mm2，比重2.52g/cm3，熔點2250℃，與酸、堿溶液不起反應，具有高化學位、中子吸收、耐磨及半導體導電性。 是對酸*穩定的物質之一，在所有濃或稀的酸或堿水溶液中都穩定。 具有穩定的物理和化學性能，廣泛應用于硬質材料的磨削、研磨、鉆孔等。
應用領域
1中子吸收和防輻射材料：B元素具有高達600barn的中子吸收截面，是核反應堆中減速元件―控制棒或核反應堆防輻射部件的主要選用材料；
2復合裝甲材料：利用其輕質、超硬和高模量等特性，用作輕型防dan衣和防d裝甲材料。 采用碳化硼制作的防d農，比同型鋼質防d衣要輕50%以上。 碳化硼同時還是陸上裝甲車輛、武裝直升機以及min航客機的重要防d裝甲材料。 如AH一64阿帕奇(AH一64 Apazhe)、超級眼鏡蛇(Super Cobra)、超級美洲豹(Super Puma)、黑鷹(Black Hawk)等直升機上都使剛了碳化硼裝甲；
3半導體工業元件和熱電元件：碳化硼陶瓷具有半導體特性和較好的熱導性能，可用作高溫半導體元器件，也可以用作半導體工業中的氣體分布盤、聚焦環、微波或紅外窗口、DC插頭等。 B4C與C結合可用作高溫熱電偶元件，使用溫度高達2300℃，同時也可用作抗輻射熱電元件；
4機械密封部件：碳化硼的超硬特性和優異耐磨性能，使它成為機械密封的重要材料。 由于其成本相對較高，主要應用在一些特殊的機械密封場合；
5噴嘴材料：碳化硼的超高硬度和優異的耐磨性能，使它成為重要的噴嘴材料。 碳化硼噴嘴具有壽命長、相對低成本、省時、高效等優點。 碳化硼噴嘴的壽命是氧化鋁噴嘴的幾十倍，比WC和SiC噴嘴的壽命也要高許多倍；
6高檔耐火材料、精細工程陶瓷，如高精度噴嘴、密封環、核工業、國防工業。

思峻分散機采取直立式設計，使物料可以全部進入分散腔，符合工藝要求和流體力學要求，增加其工作效率，低處出口的出料設計符合生產要求，垂直的壓力使得該機器工作更加穩定，同時便于清潔。與物料接觸的材料根據生產要求使用SS316鋼或更加耐酸堿的哈氏合金，極大增強其耐磨損和耐腐蝕的特性，杜絕設備與物料產生物理和化學變化而形成污染。采用了三層結構卡匣式的機械密封設計，可以快速安裝，可靠性能高，適合制藥工業。根據制藥規范要求，對分散腔和出料口進行表面處理，ji高的表面處理質量和無si角設計便于清洗，符合CIP及SIP的清潔標準。

思峻分散機采取直立式設計，由1-3個工作腔組成，在馬達的高速驅動下，物料在轉子定子之間狹窄間隙中高速運動，形成紊流，物料受到更強液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用，從而達到分散、乳化、破碎的效果。被加工的物料本身和物理性質和工作腔的數量以及控制物料在工作腔中停留的時間決定物料粒徑的分布范圍及均化、細化的效果和產量大小。

分散機的優勢：

·         結合優良的研磨效果的高吞吐量

·         定制不同的乳化刀頭，實現多種分散乳化剪切速率

·         為減少顆粒大小的控制，可無限調整定子/轉子之間的間隙設置

·         適合于粘度高達50,000 mPas的各種粘度范圍的物料

·         能在高達16 bar的壓力下操作

·         容易擴大規模生產，從實驗室機器開發到工業生產機器

·         所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼

·         具有耐磨材料的高性能機械密封密封

·         高質量的表面處理，便于清洗

·         可根據要求提供其他材料和表面處理

·         機器可自動排水， 具有CIP和SIP功能

·         噪音低

·         根據符合EHEDG（歐洲衛生工程設計集團）準則制造

·         符合3A衛生和認證

·         根據需要提供制藥

·         根據提供的ATEX 95指導方針執行防爆

從設備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.分散頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.分散頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.分散頭的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)  
              g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
思峻 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

納米碳化硼高速分散機