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產品簡介
藥用輔料二氧化tai研磨分散機，是專業針對二氧化tai用于醫藥領域時的特性研發。二氧化tai作為藥用白色顏料，廣泛用于不透明膠囊、片劑薄膜包衣等。該設備運用高剪切等技術，打破傳統設備局限，轉速遠超常規，可達14000轉 ，能高效破除二氧化tai團聚現象，使物料充分分散 。設備材質符合醫藥衛生標準，從SUS304到氧化鋯陶瓷多種可選，且具備多種聯結形式、豐富電機類型，能滿足不同生
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二氧化tai在食品和醫藥中使用二氧化tai同樣是利用了其不透明性，以提高食品和醫藥制品的裝飾增白著色效果。藥用白色顏料，具有顏料性能好，有害雜質含量低等優點，是食品著色的添加劑，具有粒度均勻，均質性好的優點，適合用于：果凍、膨化食品、糖果、涼果、口香糖、硬糖、沙拉醬、碳酸飲料和奶制品系列等食品增白著色。藥用白色顏料，具有優異顏料性能有害雜質的量低，適合制造不透明、片劑薄膜包衣、霜劑、藥用包裝材料、藥用油墨，也可作為化妝品和食品的添加劑。具有粒度均勻，均質性好的優點，去粒子水和明膠中均質良好，無絮凝沉淀物。
研磨分散機對于研磨藥用輔料二氧化tai的優勢：
一、縮短工藝時間。SID高剪切乳化分散設備可以迅速地混合分散二氧化tai粉末，并消除結塊和團聚。也提供GLD和GLC粉體/液體混合機，將粉體直接加入液體，無需循環處理，一次性通過便可成型。
二、提高品質。SID高剪切混合機可以打碎結塊粉體，并與液體充分混合。這樣可以改善產品光澤和透明度，這兩個特征由分散好壞直接決定。
三、減少資金投入。SID磨機可以納米程度縮小粒徑，達到窄粒徑分布。分散研磨設備的流量比同類研磨設備高出很多，但也可達到相類似的效果。模塊化設計的SID 2000系列產品，可以幫助客戶節約資金投資。
SID公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。將SID高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成研磨分散機，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成。
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。
【GMD2000系列研磨分散機的特點】
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
藥用輔料二氧化tai研磨分散機GMD2000設備型號參數表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
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