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產(chǎn)品中心膠體磨實(shí)驗(yàn)室膠體磨GMD2000納米高剪切膠體磨
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納米高剪切膠體磨是實(shí)現(xiàn)物料納米級(jí)細(xì)化的高效設(shè)備，核心是通過(guò)定子與轉(zhuǎn)子高速剪切、研磨等作用，將物料分散至納米尺度。它適用于涂料、醫(yī)藥、食品等領(lǐng)域，能提升物料穩(wěn)定性與性能。具有效率高、細(xì)化效果好、操作便捷的特點(diǎn)，可滿足不同行業(yè)對(duì)物料納米級(jí)處理的需求。
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ARTICLES納米高剪切膠體磨
納米膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱(chēng)為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求, SID 在GM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)了一款GM2000納米超高速膠體磨，轉(zhuǎn)子的線速度可以達(dá)到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒徑分布更小。
GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。
納米高剪切膠體磨設(shè)備參數(shù)表：
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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